第一節(jié) 陣列段流程 一、主要工藝流程和工藝制程 工藝制程:1、成膜:PVD、CVD 2、光刻:涂膠、圖形曝光、顯影3、刻蝕:濕刻、干刻 4、脫膜 二、輔助工藝制程 1、清洗 2、打標(biāo)及邊緣曝光 3、AOI 4、Mic、Mac 觀測 5、成膜性能檢測(RS meter、Profile、RE/SE/FTIR) 6、O/S 電測 7、TEG 電測 8、陣列電測 9、激光修補(bǔ)。 三、返工工藝流程 1、PR 返工 2、Film 返工 四、陣列段完整工藝流...
2023-06-06 19:08:29